光刻胶HMDS预处理常见问题
发布者：格莱尼尔公司发布时间：2021-01-20
光刻胶HMDS预处理常见问题
1.HMDS是如何涂在硅片表面的？是像匀胶那样甩涂吗？另外，是在什么温度下操作，需不需要在加热硅片的同时涂覆，还是等去把硅片清洗完毕烘干冷却后甩涂？
答：HMDS是气相涂布在硅片表面，也就是硅片在HMDS的蒸汽中放置一会儿，温度约100-180度即可
2.在涂光刻胶之前需要把涂有HMDS的硅片烘干冷却后在涂光刻胶吗？还是把涂有HMDS的硅片不烘干直接涂胶？
答：HMDS处理后需要冷却后涂胶，但等待时间不能太长，过长处理效果会变差，建议4小时内完成涂胶
3.在HMDS上面在滴光刻胶甩涂时，光刻胶内的溶剂会不会又把HMDS层给破坏呢？
答：HMDS上面涂胶不影响HMDS的处理效果
4.在显影过程中硅片表面的HMDS层如何去除掉才能使被刻蚀的硅表面露出？
答：HMDS本身是表面改性，HMDS本身不会涂在园片表面，因此不用担心去除HMDS层
1.HMDS是如何涂在硅片表面的？是像匀胶那样甩涂吗？另外，是在什么温度下操作，需不需要在加热硅片的同时涂覆，还是等去把硅片清洗完毕烘干冷却后甩涂？
答：HMDS是气相涂布在硅片表面，也就是硅片在HMDS的蒸汽中放置一会儿，温度约100-180度即可
2.在涂光刻胶之前需要把涂有HMDS的硅片烘干冷却后在涂光刻胶吗？还是把涂有HMDS的硅片不烘干直接涂胶？
答：HMDS处理后需要冷却后涂胶，但等待时间不能太长，过长处理效果会变差，建议4小时内完成涂胶
3.在HMDS上面在滴光刻胶甩涂时，光刻胶内的溶剂会不会又把HMDS层给破坏呢？
答：HMDS上面涂胶不影响HMDS的处理效果
4.在显影过程中硅片表面的HMDS层如何去除掉才能使被刻蚀的硅表面露出？
答：HMDS本身是表面改性，HMDS本身不会涂在园片表面，因此不用担心去除HMDS层
